Highly corrosion and wear-resistant NiW–SiC–CeO₂ composite coating

ABSTRACT

Crack-free and uniform NiW composite coatings filled with ceramic particles such as SiC and CeO₂ were deposited on brass substrates by applying direct current (DC) and a well-designed pulse reverse current waveforms (PRC). PRC coatings displayed the noblest corrosion potential and lowest current density compared to DC electrodeposited coatings. Among all PRC coatings, PRC–NiW–SiC–CeO₂ demonstrated the highest corrosion resistance and the lowest current density. It also seems that the addition of ceramic particles to the NiW matrix enhanced the wear resistance of the coatings and the lowest wear volume of about (14.119 × 10³µm³) and the friction coefficient of 0.25 was obtained due to the formation of the uniform, void-free and packed structures with high content of SiC and CeO₂ particles in the deposit.

On a déposé sur des substrats en laiton des revêtements composites NiW sans fissures et uniformes remplis de particules céramiques telles que SiC et CeO₂, en appliquant un courant continu (DC) et des formes d’onde bien conçues de courant inverse pulsé (PRC). Les revêtements PRC ont affiché le potentiel de corrosion le plus noble et la densité de courant la plus faible par rapport aux revêtements électrodéposés en courant continu. Parmi tous les revêtements PRC, PRC–NiW–SiC–CeO₂ a démontré la plus haute résistance à la corrosion et la plus faible densité de courant. Il semble également que l’ajout de particules céramiques à la matrice de NiW a augmenté la résistance à l’usure des revêtements. Le plus petit volume d’usure d’environ (14.119 x 10³ μm³) et le coefficient de frottement de 0.25 ont été obtenus en raison de la formation de structures uniformes, sans lacunes et compactes avec une teneur élevée en particules de SiC et CeO₂ dans le dépôt.

KEYWORDS:

• Nickel
• tungsten
• cerium
• friction
• corrosion
• silicon-carbide
• pulse reverse current‌
• wear

Disclosure statement

No potential conflict of interest was reported by the author.